中文 / EN

P110(2微米,单材料系统)

科研/通用设备

P110(2微米,单材料系统)

nanoArchTM是采用PμLSE(面投影微立体光刻)技术,用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化,逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作,具备成型效率高、生产成本低、打印精度高等突出优势,并能实现多材料的微纳尺度材料三维打印。微结构分辨率可达 2μm。

在微纳加工领域,BMF Material拥有多年的实践经验,针对客户在设备使用中可能出现的工艺难题,提供简易高效的技术支撑方案;并可帮助客户挖掘广泛的科学家研究网络,促进材料研究。


特点

01

   

可定制高定位精度的光学系统和运动平台,两者最高分辨率皆可达到2μm。



02

   

配置高精度CCD图像监控系统,实现光学对焦及实时曝光补偿,方便用户监控打印过程中的异常。

03

   

采用图像拼接成型方式解决成型精度与大尺寸成型之间的矛盾。

04

   

通过工艺技术控制,实现3D打印成品的表面光滑。




 

外观示意图

应用领域


超轻多功能材料

微光学器件

微流控器件

超精密陶瓷

人造生物组织工程

   

相关文献


资料下载

摩方材料科技有限公司 粤ICP备16062344号