nanoArch

nanoArch 是采用PμLSE(面投影微立体光刻)技术,用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化,逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作。

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展会预告|6月8-10日摩方材料将出席2018第二届微纳流动与芯片实验室国际会议

2018-06-06

2018年6月8日-10日,摩方材料将携团队参展位于北京工大建国饭店的2018第二届微纳流动与芯片实验室国际会议。
 


届时摩方材料将现场展示基于PμSLE(面投影微立体光刻)制作的微纳尺度3D打印模型,及微流控样品,我们诚挚邀请您莅临公司展区参观指导。

 


微流控3D打印样件
 
 


微流控3D打印样件电镜图

 

会议时间:2018年6月8日-6月10日
会议地点:北京工大建国饭店(北京市朝阳区平乐园100号)
展位地点:展位2