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nanoArch® 是采用PμSL(面投影微立体光刻)技术,用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化,逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作。
打印精度:2μm 打印尺寸:3.84mm(L)×2.16mm(W)×10mm(H)
打印精度:2μm 打印尺寸: mode1:3.84*2.16mm2*10mm mode2:38.4mm*21.6mm*10mm mode3:50mm*50mm*10mm
打印精度:10μm 打印尺寸:19.2mm(L)×10.8mm(W)×45mm(H)
打印精度:10μm 打印尺寸: mode1:19.2mm*10.8mm*45mm mode2:94mm*52mm*45mm mode3:94mm*52mm*45mm
打印精度:25μm 打印尺寸:48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)
nanoArch® In系列工业级3D打印系统为超精密增材制造量身定做,满足当今工业客户需求。凭借全球领先的超高打印精度(2um ~ 50um)、超精密的加工公差控制能力(+/- 5um ~ +/- 25um),nanoArch ® In打印系统可为客户提供免模具的超高精度快速打样验证。
打印精度:2 μm 打印尺寸:3.84mm(L) * 2.16mm(W) * 10mm(H)
打印尺寸:100mm(L) * 100mm(W) * 75mm(H)
打印精度:2 μm 打印尺寸: mode1:3.84*2.16mm2*10mm mode2:38.4mm*21.6mm*10mm mode3:50mm*50mm*10mm
打印精度:10 μm 打印尺寸:19.2mm(L) * 10.8mm(W) * 45mm(H)
打印精度:10 μm 打印尺寸: mode1:19.2mm*10.8mm*45mm mode2:94mm*52mm*45mm mode3:94mm*52mm*45mm
打印精度:25 μm 打印尺寸:48mm(L) * 27mm(W) * 50mm(H)
可定制高定位精度的光学系统和运动平台,两者最高分辨率皆可达到20μm。
采用图像拼接成型方式解决成型精度与大尺寸成型之间的矛盾。
通过工艺技术控制,实现3D打印成品的表面光滑。
光学方面:光学实时监控,实现自动对焦及曝光补偿;
软件系统:nanoArch图形界面控制系统,参数端口开放。
电力需求
100-240V/单相/50/60Hz/15A; 供电电网波动: <5%; 电网地线符合机房国标要求。
环境温度
25±3℃
环境湿度
40%-60%
需避免的场合
垃圾、灰尘、油雾多的场所; 震动以及冲击多的场所; 能触及药品和易燃易爆物的场所; 高频干扰源附近的场所; 温度会急剧变化的场所; 在 CO2、NOX、SOX等浓度高的环境中。
尖端直径0.03mm P140 Resolution 7.6μm
最小孔径0.12mm P140 Resolution 7.6μm
最小凹槽边缘厚度0.08mm P140 Resolution 7.6μm
连接杆直径0.2mm P140 Resolution 7.6μm
结合创新的3D微制造技术与数值模拟,增强3D细胞培养中的质量传输
一种开放式毛细血管,可输送和分配溶剂,从而引发弯曲聚合物梁的膨胀和弯曲
通过引入弹性不稳定性,弹性能量可以有效储存,并快速从3D微水凝胶装置中释放
无论组成材料如何,3D打印出的材料跨三个密度数量级都展现出超高强度