nanoArchR InP140 系统简介
nanoArch InP140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
微纳3D打印先行者和领导者
作为微纳3D打印先行者和领导者,在三维复杂结构微纳加工领域,BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验,针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题,我们将持续提供简易高效的技术支持方案。
科研级3D打印系统
nanoArch InP140是科研级3D打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
科研级3D打印系统
nanoArch InP140是科研级3D打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoArchR InP140 系统性能
光源

UV-LED(405nm)

打印材料

丙烯酸类/聚氨酯丙烯酸类/聚酯丙烯酸类/
聚醚丙烯酸类/光敏树脂类

光学精度

10μm

XY打印精度

10~ 40μm

打印层厚

10~40μm

打印样品尺寸

19.2mm*10.8mm

样品高度

10mm in typical;
45mm in Max

打印速度

142~569mm3/h

打印文件格式

STL

电气要求

3000W

系统外形尺寸

1000(L)*700(W)*1600mm(H)

重量

300kg

微纳制造 精密必现
nanoArch InP140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻技术(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)
微纳制造 精密必现
nanoArch InP140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻技术(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。

个性化

405nm固化波段的光敏树脂材料 ,支持透明树脂,柔性树脂,硬性树脂,纳米颗粒掺杂复合树脂,4D打印树脂,生物医疗树脂等,需适配不同的工艺和模型,不保证打印性能

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。

个性化

405nm固化波段的光敏树脂材料,支持透明树脂,柔性树脂,硬性树脂,纳米颗粒掺杂复合树脂,4D打印树脂,生物医疗树脂等,需适配不同的工艺和模型,不保证打印性能。

系统特点

高精度
(140系列的10μm)

低层厚
(5μm~20μm的打印层厚效果对比)
点击查看

nanoArch InP140
打印精度:10~ 40μm,层厚10~40μm。
普通光固化机器
打印精度:30μm,层厚20μm。
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光学监控系统,自动对焦功能

配置气浮平台,提高打印质量

优良的光源稳定性

配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化

应用案例

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