nanoArch

nanoArch 是采用PμLSE(面投影微立体光刻)技术,用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化,逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作。

了解更多

展会预告|6月5-9日摩方材料将出席第18届全美力学大会

2018-06-06

摩方材料将携团队参展第18届全美力学大会(18th U.S. National Congress of Theoretical and Applied Mechanics,USNCTAM 2018)。


此次大会由美国西北大学承办,将于2018年6月4日至9日在美国芝加哥举办,并首次由美国力学国家委员会和中国力学学会联合主办。美国塔夫斯大学曲建民教授、美国西北大学Wing Kam Liu教授、浙江大学杨卫院士(中国力学学会理事长)和北京理工大学方岱宁院士(中国力学学会副理事长)担任共同主席。

 


届时摩方材料将现场展示基于PμSLE(面投影微立体光刻)制作的微纳尺度3D打印模型,我们诚挚邀请您莅临公司展区参观指导。

 

会议时间:2018年6月5-9日
会议地点:Hyatt Regency O’Hare
展位信息:以现场展位信息为准