nanoArchR InP160 系统简介
nanoArch InP160是首台工业级的多材料3D打印系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
微纳3D打印先行者和领导者
作为微纳3D打印先行者和领导者,在三维复杂结构微纳加工领域,BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验,针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题,我们将持续提供简易高效的技术支持方案。
工业级3D打印系统
nanoArch InP160是工业级3D打印系统,本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统,兼顾高精度和多材料打印,可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印,适用于基础理论验证及原理创新研究,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控,多材料4D打印等方面。
工业级3D打印系统
nanoArch InP160是工业级3D打印系统,本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统,兼顾高精度和多材料打印,可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印,适用于基础理论验证及原理创新研究,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控,多材料4D打印等方面。
nanoArchR InP160 系统性能
光源

UV-LED(405nm)

打印材料

Multi materials, 4 in Max

光学精度

50μm

XY打印精度

50~200μm

打印层厚

20~50μm

打印样品尺寸

96mm*54mm

样品高度

20mm in typical;
50mm in Max

打印速度

5180~25920mm3/h

打印文件格式

STL

电气要求

3000W

系统外形尺寸

1000(L)*700(W)*1600mm(H)

重量

300kg

微纳制造 精密必现
nanoArch InP160是首台工业级的多材料3D打印系统,它采用的是面投影微立体光刻技术(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)
微纳制造 精密必现
nanoArch InP160是首台工业级的多材料3D打印系统,它采用的是面投影微立体光刻技术(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)

打印材料

1、硬性树脂(R-160-50系列)
2、柔性树脂(S-160-50系列)
3、韧性树脂(T-160-50系列)
4、掺杂纳米颗粒复合树脂,不保证打印性能

打印材料

1、硬性树脂(R-160-50系列)
2、柔性树脂(S-160-50系列)
3、韧性树脂(T-160-50系列)
4、掺杂纳米颗粒复合树脂,不保证打印性能

系统特点

独特的供料系统和涂层技术

具有高精度微尺度多材料的打印能力

光学监控系统,自动对焦功能

配置光学平台,提高打印质量

优良的光源稳定性

配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化

应用案例

Stackable Adapter

Nozzle

Micro Vascular Stent

负热膨胀多材料样件

亲水型树脂和亲水型树脂多材料样件

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