微纳3D精密制造之门

nanoArchR P140 系统简介

nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

nanoArchR P140 系统性能

性能参数 nanoArch P140 产品规格
光源 UV-LED(405nm)
打印材料 光敏树脂
光学精度 10μm
打印层厚 10~40μm
打印样品尺寸 19.2mm(L)*10.8mm(W)*45mm(H)
打印文件格式 STL
系统外形尺寸 1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm(H)
机器外形尺寸 650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm(H)
重量 245kg
电气要求 220~240V AC,50/60HZ,2KW

设备特点优势

超高精度(光学精度高达10μm)

低层厚(10μm~40μm的打印层厚效果对比)
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nanoArch P140
打印精度:10~ 40μm,层厚10~40μm。
普通光固化机器
打印精度:30μm,层厚20μm。
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光学监控系统,自动对焦功能

微尺度打印能力

优良的光源稳定性

配套功能强大的打印软件、切片软件

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