nanoArchR S130 系统简介
nanoArch S130是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
科研级3D打印系统
nanoArch S130是科研级3D打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，可以兼顾微尺度和宏观样件的打印，从而实现超高精度大幅面的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
科研级3D打印系统
nanoArch S130是科研级3D打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，可以兼顾微尺度和宏观样件的打印，从而实现超高精度大幅面的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoArchR S130 系统性能
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光源
UV-LED(405nm) |
打印材料
光敏树脂 |
光学精度
2μm |
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XY打印精度
2~10μm |
打印层厚
5~20μm |
打印样品尺寸
模式1：38.4mm(L)×21.6mm(W)×10mm(H)① |
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打印文件格式
STL |
系统外形尺寸
1720mm(L)×650mm(W)×1820(H)mm3 |
重量
450kg |
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电气要求
200~240V AC,50/60HZ,3KW |
其他要求
部分工艺选配氮气或氧气 |
注：①、样品高度典型2mm，最高10mm
微纳制造 精密必现
nanoArch S130是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻技术（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）
微纳制造 精密必现
nanoArch S130是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻技术（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）
打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
个性化
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
个性化
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
系统特点
高精度
（XY打印精度高达2μm）
低层厚
（5μm~20μm的打印层厚效果对比）
点击查看
微尺度大幅面的打印能力
光学监控系统，自动对焦功能
配置气浮平台，提高打印质量
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化
应用案例
三维点阵模型
超高XY打印精度
微型弹簧
微型弹簧
