开启微纳3D精密制造之门

nanoArchR S140 系统简介

nanoArch S140是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

微纳3D打印先行者和领导者

作为微纳3D打印先行者和领导者,在三维复杂结构微纳加工领域,BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验,针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题,我们将持续提供简易高效的技术支持方案。

科研级3D打印系统

nanoArch S140是科研级3D打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,可以兼顾微尺度和宏观样件的打印,从而实现超高精度大幅面的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
科研级3D打印系统
科研级3D打印系统

科研级3D打印系统

nanoArch S140是科研级3D打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,可以兼顾微尺度和宏观样件的打印,从而实现超高精度大幅面的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArchR S140 系统性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏树脂

光学精度

10μm

XY打印精度

10~40μm

打印层厚

10~40μm

打印样品尺寸

Mode Single:19.2mm*10.8mm*45mm
Mode stitch:94mm*52mm*45mm
Mode Array:94mm*52mm*45mm

打印文件格式

STL

系统外形尺寸

1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3

机器外形尺寸

650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3

重量

300kg

电气要求

200~240V AC,50/60HZ,3KW

其他要求

部分工艺可选配加速模块及涂层模块

设备功率

3000W

注:①、样品高度典型10mm,最高45mm

微纳制造 精密必现

nanoArch S140是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻技术(PμSL:Projection Micro Stereolithography)

微纳制造 精密必现

nanoArch S140是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻技术(PμSL:Projection Micro Stereolithography)

打印材料

高强度材料(GR/HTL)

非常适合高强度产品快速原型
(prototype)打印和制造,强度接近工程材料PC。

韧性材料(HEK/HD/UTL)

性能类似ABS材料,适合有卡扣等有装配关系的原型结构件加工和测试。

耐高温材料(HTL)

热变形温度142℃(@0.45MPa),适用于高温环境下使用,例如医疗器械高温消毒等应用。

生物相容性材料(BIO)

通过了生物相容性认证,适用于食品、牙科和医疗器械等行业。

打印材料

高强度材料(GR/HTL)

非常适合高强度产品快速原型
(prototype)打印和制造,强度接近工程材料PC。

韧性材料(HEK/HD/UTL)

性能类似ABS材料,适合有卡扣等有装配关系的原型结构件加工和测试。

耐高温材料(HTL)

热变形温度142℃(@0.45MPa),适用于高温环境下使用,例如医疗器械高温消毒等应用。

生物相容性材料(BIO)

通过了生物相容性认证,适用于食品、牙科和医疗器械等行业。

系统特点

高精度
(XY打印精度高达10μm)

低层厚
(10μm~40μm的打印层厚效果对比)
点击查看

nanoArch S140
打印精度:10~40μm,层厚10~40μm。
普通光固化机器
打印精度:30μm,层厚20μm。
×

微尺度大幅面的打印能力

光学监控系统,自动对焦功能

配置气浮平台,提高打印质量

优良的光源稳定性

配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化

应用案例

三维点阵模型

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生物支架

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唐代佛像

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