nanoArchR P150 系统简介
nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
科研级3D打印系统
nanoArch P150是科研级3D打印系统，拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚，具备优良的光源稳定性，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
科研级3D打印系统
nanoArch P150是科研级3D打印系统，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印，适用于基础理论验证及原理创新研究，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控，多材料4D打印等方面。
nanoArchR P150 系统性能
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光源
UV-LED(405nm) |
打印材料
光敏树脂 |
光学精度
25μm |
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XY打印精度
50~200μm |
打印层厚
10~50μm |
打印样品尺寸
48mm(L)×27mm(W)×50mm(H) |
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打印文件格式
STL（单材） |
系统外形尺寸
530mm(L)×540mm(W)×700mm(H) |
重量
300kg |
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电气要求
200~240V AC,50/60HZ,2KW |
其他要求
部分工艺可选配加速模块及涂层模块 |
设备功率
2000W |
微纳制造 精密必现
nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Stereolithography）
微纳制造 精密必现
nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Stereolithography）
打印材料
高强度材料（GR/HTL）
非常适合高强度产品快速原型
（prototype）打印和制造，强度接近工程材料PC。
韧性材料（HEK/HD/UTL）
性能类似ABS材料，适合有卡扣等有装配关系的原型结构件加工和测试。
耐高温材料(HTL)
热变形温度142℃（@0.45MPa），适用于高温环境下使用，例如医疗器械高温消毒等应用。
生物相容性材料(BIO)
通过了生物相容性认证，适用于食品、牙科和医疗器械等行业。
打印材料
高强度材料（GR/HTL）
非常适合高强度产品快速原型
（prototype）打印和制造，强度接近工程材料PC。
韧性材料（HEK/HD/UTL）
性能类似ABS材料，适合有卡扣等有装配关系的原型结构件加工和测试。
耐高温材料(HTL)
热变形温度142℃（@0.45MPa），适用于高温环境下使用，例如医疗器械高温消毒等应用。
生物相容性材料(BIO)
通过了生物相容性认证，适用于食品、牙科和医疗器械等行业。
系统特点
独特的供料系统和涂层技术
具有高精度微尺度多材料的打印能力
光学监控系统，自动对焦功能
配置光学平台，提高打印质量
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化
应用案例
微流控器件
展示样件
