nanoArchR P150 系统简介
nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
科研级3D打印系统
nanoArch P150是科研级3D打印系统，拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚，具备优良的光源稳定性，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
科研级3D打印系统
nanoArch P150是科研级3D打印系统，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印，适用于基础理论验证及原理创新研究，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控，多材料4D打印等方面。
nanoArchR P150 系统性能
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光源
UV-LED(405nm) |
打印材料
光敏树脂 |
光学精度
25μm |
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XY打印精度
50~200μm |
打印层厚
10~50μm |
打印样品尺寸
48mm(L)×27mm(W)×50mm(H) |
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打印文件格式
STL（单材） |
系统外形尺寸
530mm(L)×540mm(W)×700mm(H) |
重量
300kg |
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电气要求
200~240V AC,50/60HZ,2KW |
其他要求
部分工艺可选配加速模块及涂层模块 |
设备功率
2000W |
微纳制造 精密必现
nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）
微纳制造 精密必现
nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）
打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
个性化
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
个性化
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
系统特点
独特的供料系统和涂层技术
具有高精度微尺度多材料的打印能力
光学监控系统，自动对焦功能
配置光学平台，提高打印质量
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化
应用案例
微流控器件
展示样件
