P140（10微米）/ S140（10微米，带拼接）
发布日期：2017-06-01
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nanoArchTM是采用PμLSE（面投影微立体光刻）技术，用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化，逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作，具备成型效率高、生产成本低、打印精度高等突出优势，并能实现多材料的微纳尺度材料三维打印。微结构分辨率可达10μm。nanoArch™ P140/S140 的XY 打印精度高达到10μm，Z向打印精度10μm，打印幅面14.5*8.2 mm2，可扩展到73*50 mm2，普遍适用于高校或科研院所的科学实验，以及企业研发等，应用在血管支架，微通道，微连接器，微流控芯片，太赫兹器件等领域。
在微纳加工领域，BMF Material拥有多年的实践经验，针对客户在设备使用中可能出现的工艺难题，提供简易高效的技术支撑方案；并可帮助客户挖掘广泛的科学家研究网络，促进材料研究。
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