南京大学国家重点实验室完成nanoArchP110 验收
发布日期：2017-07-14
浏览量：6569次
2017年6月30日，摩方材料出品的微纳米尺度3D打印系统设备nanoArch™ P110由南京大学正式通过验收。这是摩方材料成长过程中，继nanoArch™ P120之后的又一里程碑，其代表着摩方材料在通往高精密微纳打印的道路上，逐渐迈向成熟，如同摩方材料公司核心价值观一样，稳中求进，逐渐强大。
nanoArch™采用PμLSE（面投影微立体光刻）技术，是用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。其通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化，逐层累加从而完成产品的制作，即通过一次曝光可以完成一层的制作。
nanoArch System 是基于PULSE技术(面投影微立体光刻技术)的微纳米级3D打印系统，PμLSE技术(面投影微立体光刻技术)被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
微纳3D打印机nanoArch P110是采用PμLSE（面投影微立体光刻）技术，用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化，逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作，具备成型效率高、生产成本低、打印精度高等突出优势，并能实现多材料的微纳尺度材料三维打印。微结构分辨率可达2μm。
在微纳加工领域，BMF Material拥有多年的实践经验，针对客户在设备使用中可能出现的工艺难题，提供简易高效的技术支撑方案；并可帮助客户挖掘广泛的科学家研究网络，促进材料研究。
微纳3D打印机nanoArch P110有以下四个显著的产品特点：
(1).可定制高定位精度的光学系统和运动平台，两者最高分辨率皆可达到2μm。
(2).配置高精度CCD图像监控系统，实现光学对焦及实时曝光补偿，方便用户监控打印过程中异常。
(3).采用图像拼接成型方式解决成型精度与大尺寸成型之间的矛盾。
(4).通过工艺技术控制，实现3D打印成品的表面光滑。
nanoArch™ P110 打印参数：
|
打印尺寸： |
80x80 mm |
打印技术： |
PμLSE |
|
机器尺寸： |
1750x650x1820mm |
操作软件： |
LabView |
|
模型厚度： |
50mm |
操作系统： |
WINDOWS |
|
XY方向精度： |
2 um |
文件格式： |
PNG/STL |
|
Z方向精度： |
10 um |
输入电压： |
220V /50HZ |
|
打印耗材： |
光敏树脂 |
机器功率： |
3000W |
|
环境温度： |
25±2℃ |
机器重量： |
500KG |
使用材料：
耗材要求：兼容各种中、低粘度405nm波长光固化树脂体系
应用行业：
|
1 科研类 |
|
|
|
X.Zheng, W.Smith, J.Jackson, B.Moran, H.Cui, D.Chen, J.Ye, N.Fang, N.Rodriguez, T.Weisgraber & C.M.Spadaccini, "Multiscale Metallic Metamaterials", Nature Materials,15(10):1100 (2016) |
|
X. Zheng, H. Lee, T. H. Weisgraber, M. Shusteff, J. DeOtte, E. B. Duoss, J. D. Kuntz, M.M. Biener, Q. Ge, J. A. Jackson, S. O. Kucheyev, N. X. Fang, C. M. Spadaccini, “Ultralight, ultrastiff mechanical metamaterials”, Science, Vol 344(6190), 1373-7(2014). |
|
Z.Liu, H.Lee, Y.Xiong, C.Sun,and X,Zhang, "Far-Field Optical Hyperlens Magnifying |
|
N.Fang, H.Lee, C.Sun, and X.Zhang, "Sub-Diffraction-Limited Optical Imaging with a Silver Superlens", Science, 308(5721), pp534-537, (2005) |
|
2轻量化材料 |
|
|
|
应用领域：航空/航天/汽车 |
|
3光学元器件 |
|
|
|
应用领域：手机/VR/相机 |
希望南京大学师生可以利用nanoArch™ P110研究出更伟大的案例，给中国科学研究带来更多捷报，提升中国在国际高精密加工技术领域的雄厚实力！
